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        日立高新磁控濺射器

        產(chǎn)品時間:2024-06-02

        訪問次數(shù):1661

        簡要描述:

        日立高新磁控濺射器
        采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件
        可處理較厚或較大的樣品(選配件)
        記憶功能可存儲常用加工條件

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        日立高新磁控濺射器MC1000

        日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極,能夠限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

        • 日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑:60 mm

        • 日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度:20 mm

         日立高新磁控濺射器

        特點:

        • 采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件

        • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

        • 記憶功能可存儲常用加工條件

        規(guī)格:

        日立科學(xué)儀器有限公司為您提供日立高新磁控濺射器MC1000的參數(shù)、價格、型號、原理等信息,日立高新磁控濺射器MC1000產(chǎn)地為日本、品牌為日立,型號為MC1000,價格為面議,更多相關(guān)信息可,公司客服電話7*24小時為您服務(wù)


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